光發(fā)射顯微鏡EMMI微光顯微鏡漏電定位

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2020-03-06 13:37:06

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    ????? 針對(duì)漏電失效模式,必不可少的分析工具。器件在設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造過(guò)程中有絕緣缺陷,或者期間經(jīng)過(guò)外界靜電擊穿,均會(huì)造成器件漏電失效。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下,內(nèi)部形成流動(dòng)電流,漏電位置的電子會(huì)發(fā)生遷移,形成電能向光能的轉(zhuǎn)化,即電能以光能的方式釋放,通過(guò)紅外顯微鏡探測(cè)到這些釋放出來(lái)的紅外線,從而的定位到器件的漏電點(diǎn)。
          光發(fā)射顯微鏡是器件分析過(guò)程中針對(duì)漏電失效模式,必不可少的分析工具。器件在設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造過(guò)程中有絕緣缺陷,或者期間經(jīng)過(guò)外界靜電擊穿,均會(huì)造成器件漏電失效。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下,內(nèi)部形成流動(dòng)電流,漏電位置的電子會(huì)發(fā)生遷移,形成電能向光能的轉(zhuǎn)化,即電能以光能的方式釋放,從而形成200nm~1700nm紅外線。光發(fā)射顯微鏡主要利用紅外線偵測(cè)器,通過(guò)紅外顯微鏡探測(cè)到這些釋放出來(lái)的紅外線,從而的定位到器件的漏電點(diǎn)。
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