*一代的TESCAN MIRA場發(fā)射描電鏡給用戶帶來了*的技術優(yōu)點(如改進的高性能電子設備使成像過程更快,快速掃描系統(tǒng)包括了動態(tài)與靜態(tài)圖像扭曲補償,有內置的編程軟件等),同時保持著*的。MIRA3的設計適用于各種各樣的SEM應用及當今研究和產業(yè)的需求。大電子束流下的高分辨率有利于分析應用,例如: EBSD、WDX等分析。MIRA3場發(fā)射掃描電鏡可配置LM、XM或GM三種樣品室。所有的MIRA樣品室(LM、XM或GM)提供*的5軸馬達驅動全計算機化優(yōu)中心樣品臺,完善的幾何設計更適合安裝能譜儀(EDS),波譜儀(WDX),電子背散射衍射(EBSD)。XM和GM樣品室適用于大樣品的分析。
現代電子光路;高亮度肖特基電子槍可獲得 高分辨率/高電流/低噪音圖像的三透鏡大視野觀察(Wide Field OpticsM)設計提供了多種工作與顯示模式的中間鏡的作用就如同軟件“光闌轉換器”,它以電磁方式有效地改變物鏡光闌結合了完善的電子光學設計軟件的實時電子束追蹤(In-Flight Beam Tracing"),可模擬和優(yōu)化電子束可選的In-Beam探頭可獲得特高分辨率圖像電鏡的全自動設置成像速度快使用3維電子束技術,實時得到立體圖像,三維導航維修簡單;現在保持電鏡處在*的狀態(tài)很簡單,只需要很短的停機時間。每個細節(jié)設計得很仔細,使得儀器的效率*化,操作*簡化。自動操作;設備的特點包括了自動設置和眾多自動操作。除此之外,電鏡還有樣品臺自動導航與自動分析程序,能明顯減少操作員的操作時間。通過內置腳本語言(Python) 可進入軟件的大多數功能,包括顯微鏡的控制、樣品臺的控制、圖像采集、處理與分析。通過腳本語言用戶還可以編程其自己的自動操作程序。用戶界面友好的軟件與軟件工具;多語言操作界面.多用戶界面(包括了EasySEMTM模式)不同賬戶的權利使常規(guī)分析過程更快圖片管理,報告生成內置的系統(tǒng)檢查與系統(tǒng)診斷網絡操作與遠程進入/診斷模塊化軟件體系結構標準軟件包括了測量、圖像處理、對象區(qū)域,等模塊可選的軟件和包括顆粒度分析標準版/*版、3維表面重建,等模塊MIRA3 GM;MIRA3 GM是-款完全由計算機控制的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,具有突出的光學性能,清晰的數字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點。基于Windows"平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標準文件格式的圖片,可以對圖像進行管理、處理和測量,實現了電鏡的自動設置和許多其它自動操作。MIRA3 XM;MIRA3 XM是一款完全由計算機控制的場發(fā)射描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,其其具有突出的光學性能,清晰的數字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點。基于WindowsTM平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標準文件格式的圖片,可以對圖像進行管理、處理和測量,實現了電鏡的自動設置和許多其它自動操作。MIRA3 LM;MIRA3 LM是一款完全由計 算機控制的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,其具有突出的光學性能,清晰的數字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點。基于WindowsM平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標準文件格式的圖片,可以對圖像進行管理、處理和測量,實現了電鏡的自動設置和許多其它自動操作。 技術參數: 電子槍: 高亮度肖特基 分辨率: 高真空模式(二次電子) 1.2nm@30kV 1.5nm@ 15kV 2.5nm@3kV 放大倍數: 1x-1,000,000x(在連續(xù)大視野/分辨率模式下5"圖像寬度) 加速電壓: 200V-30Kv 探針電流: 2pA-2μA 探測器: 二次電子探測器-ET型二次電子探測器(YAG 晶體) 掃描特征: 點&線掃描 樣品室真空: 高真空模式: <9x10-3Pa 電子槍真空: <3x10-7Pa 更換樣品后抽真空時間: <3.5分鐘 樣品臺: 五軸樣品臺,X,Y,Z,R,T 可選機型: LM/XM/GM
現代電子光路;高亮度肖特基電子槍可獲得 高分辨率/高電流/低噪音圖像的三透鏡大視野觀察(Wide Field OpticsM)設計提供了多種工作與顯示模式的中間鏡的作用就如同軟件“光闌轉換器”,它以電磁方式有效地改變物鏡光闌結合了完善的電子光學設計軟件的實時電子束追蹤(In-Flight Beam Tracing"),可模擬和優(yōu)化電子束可選的In-Beam探頭可獲得特高分辨率圖像電鏡的全自動設置成像速度快使用3維電子束技術,實時得到立體圖像,三維導航維修簡單;現在保持電鏡處在*的狀態(tài)很簡單,只需要很短的停機時間。每個細節(jié)設計得很仔細,使得儀器的效率*化,操作*簡化。自動操作;設備的特點包括了自動設置和眾多自動操作。除此之外,電鏡還有樣品臺自動導航與自動分析程序,能明顯減少操作員的操作時間。通過內置腳本語言(Python) 可進入軟件的大多數功能,包括顯微鏡的控制、樣品臺的控制、圖像采集、處理與分析。通過腳本語言用戶還可以編程其自己的自動操作程序。用戶界面友好的軟件與軟件工具;多語言操作界面.多用戶界面(包括了EasySEMTM模式)不同賬戶的權利使常規(guī)分析過程更快圖片管理,報告生成內置的系統(tǒng)檢查與系統(tǒng)診斷網絡操作與遠程進入/診斷模塊化軟件體系結構標準軟件包括了測量、圖像處理、對象區(qū)域,等模塊可選的軟件和包括顆粒度分析標準版/*版、3維表面重建,等模塊MIRA3 GM;MIRA3 GM是-款完全由計算機控制的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,具有突出的光學性能,清晰的數字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點。基于Windows"平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標準文件格式的圖片,可以對圖像進行管理、處理和測量,實現了電鏡的自動設置和許多其它自動操作。MIRA3 XM;MIRA3 XM是一款完全由計算機控制的場發(fā)射描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,其其具有突出的光學性能,清晰的數字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點。基于WindowsTM平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標準文件格式的圖片,可以對圖像進行管理、處理和測量,實現了電鏡的自動設置和許多其它自動操作。MIRA3 LM;MIRA3 LM是一款完全由計 算機控制的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,其具有突出的光學性能,清晰的數字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點。基于WindowsM平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標準文件格式的圖片,可以對圖像進行管理、處理和測量,實現了電鏡的自動設置和許多其它自動操作。
技術參數:
電子槍:
高亮度肖特基
分辨率:
高真空模式(二次電子)
1.2nm@30kV
1.5nm@ 15kV
2.5nm@3kV
放大倍數:
1x-1,000,000x(在連續(xù)大視野/分辨率模式下5"圖像寬度)
加速電壓:
200V-30Kv
探針電流:
2pA-2μA
探測器:
二次電子探測器-ET型二次電子探測器(YAG 晶體)
掃描特征:
點&線掃描
樣品室真空:
高真空模式: <9x10-3Pa
電子槍真空:
<3x10-7Pa
更換樣品后抽真空時間:
<3.5分鐘
樣品臺:
五軸樣品臺,X,Y,Z,R,T
可選機型:
LM/XM/GM
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*一代的TESCAN MIRA場發(fā)射描電鏡給用戶帶來了*的技術優(yōu)點(如改進的高性能電子設備使成像過程更快,快速掃描系統(tǒng)包括了動態(tài)與靜態(tài)圖像扭曲補償,有內置的編程軟件等),同時保持著*的。MIRA3的設計適用于各種各樣的SEM應用及當今研究和產業(yè)的需求。大電子束流下的高分辨率有利于分析應用,例如: EBSD、WDX等分析。MIRA3場發(fā)射掃描電鏡可配置LM、XM或GM三種樣品室。所有的MIRA樣品室(LM、XM或GM)提供*的5軸馬達驅動全計算機化優(yōu)中心樣品臺,完善的幾何設計更適合安裝能譜儀(EDS),波譜儀(WDX),電子背散射衍射(EBSD)。XM和GM樣品室適用于大樣品的分析。
現代電子光路;高亮度肖特基電子槍可獲得 高分辨率/高電流/低噪音圖像的三透鏡大視野觀察(Wide Field OpticsM)設計提供了多種工作與顯示模式的中間鏡的作用就如同軟件“光闌轉換器”,它以電磁方式有效地改變物鏡光闌結合了完善的電子光學設計軟件的實時電子束追蹤(In-Flight Beam Tracing"),可模擬和優(yōu)化電子束可選的In-Beam探頭可獲得特高分辨率圖像電鏡的全自動設置成像速度快使用3維電子束技術,實時得到立體圖像,三維導航維修簡單;現在保持電鏡處在*的狀態(tài)很簡單,只需要很短的停機時間。每個細節(jié)設計得很仔細,使得儀器的效率*化,操作*簡化。自動操作;設備的特點包括了自動設置和眾多自動操作。除此之外,電鏡還有樣品臺自動導航與自動分析程序,能明顯減少操作員的操作時間。通過內置腳本語言(Python) 可進入軟件的大多數功能,包括顯微鏡的控制、樣品臺的控制、圖像采集、處理與分析。通過腳本語言用戶還可以編程其自己的自動操作程序。用戶界面友好的軟件與軟件工具;多語言操作界面.多用戶界面(包括了EasySEMTM模式)不同賬戶的權利使常規(guī)分析過程更快圖片管理,報告生成內置的系統(tǒng)檢查與系統(tǒng)診斷網絡操作與遠程進入/診斷模塊化軟件體系結構標準軟件包括了測量、圖像處理、對象區(qū)域,等模塊可選的軟件和包括顆粒度分析標準版/*版、3維表面重建,等模塊MIRA3 GM;MIRA3 GM是-款完全由計算機控制的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,具有突出的光學性能,清晰的數字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點。基于Windows"平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標準文件格式的圖片,可以對圖像進行管理、處理和測量,實現了電鏡的自動設置和許多其它自動操作。MIRA3 XM;MIRA3 XM是一款完全由計算機控制的場發(fā)射描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,其其具有突出的光學性能,清晰的數字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點。基于WindowsTM平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標準文件格式的圖片,可以對圖像進行管理、處理和測量,實現了電鏡的自動設置和許多其它自動操作。MIRA3 LM;MIRA3 LM是一款完全由計 算機控制的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,可在高真空和低真空模式下操作,其具有突出的光學性能,清晰的數字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點。基于WindowsM平臺的操作軟件提供了簡易的電鏡操作和圖像采集,可以保存標準文件格式的圖片,可以對圖像進行管理、處理和測量,實現了電鏡的自動設置和許多其它自動操作。
技術參數:
電子槍:
高亮度肖特基
分辨率:
高真空模式(二次電子)
1.2nm@30kV
1.5nm@ 15kV
2.5nm@3kV
放大倍數:
1x-1,000,000x(在連續(xù)大視野/分辨率模式下5"圖像寬度)
加速電壓:
200V-30Kv
探針電流:
2pA-2μA
探測器:
二次電子探測器-ET型二次電子探測器(YAG 晶體)
掃描特征:
點&線掃描
樣品室真空:
高真空模式: <9x10-3Pa
電子槍真空:
<3x10-7Pa
更換樣品后抽真空時間:
<3.5分鐘
樣品臺:
五軸樣品臺,X,Y,Z,R,T
可選機型:
LM/XM/GM