科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36

價(jià)格
電議

型號(hào)
Nano36

品牌
科特萊思科

所在地
暫無(wú)

更新時(shí)間
2023-01-15 05:37:02

瀏覽次數(shù)

    LOAD LOCK Chamber (option)

    LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室(可選)

    Chamber with front open door

    前開(kāi)門蒸發(fā)腔體

    Cryopump and dry pump

    冷凝泵和干泵

    Multiple thermal evaporation sources   or OLED sources

    多個(gè)熱阻蒸發(fā)源或OLED低溫蒸發(fā)源

    Max. 6” substrate

    6”基片

    Substrate rotation

    基片旋轉(zhuǎn)

    Substrate bias (option)

    基片偏壓(可選)

    Ion source for substrate cleaning   (option)

    離子源清洗基片(可選)

    Substrate heating to 1000C (option)

    基片加熱1000(可選)

    Crystal rate monitor and film   thickness control

    晶振沉積速率及膜厚控制

    Manual or automatic system control

    系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制

    For deposition of l, semiconductor   and insulation materials

    可沉積金屬、半導(dǎo)體和絕緣材料

    For deposition of multi- or alloy   film

    可沉積多層膜及合金薄膜


    以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé),儀器儀表交易網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
    溫馨提示:為規(guī)避購(gòu)買風(fēng)險(xiǎn),建議您在購(gòu)買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

    其他推薦產(chǎn)品

    真空材料配件和耗材
    真空材料配件和耗材
    電議
    科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36
    科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系
    電議
    布魯克納米壓痕儀/硬度/楊氏/彈性模量系統(tǒng)
    布魯克納米壓痕儀/硬度/
    電議
    布魯克Dimension FastScan原子力顯微鏡
    布魯克Dimension
    電議
    掃描電鏡/FIB原位納米壓痕儀Hysitron PI 88
    掃描電鏡/FIB原位納米
    電議
    布魯克Hysitron PI 95透射電鏡測(cè)試系統(tǒng)
    布魯克Hysitron
    電議
    NILT納米壓印儀
    NILT納米壓印儀
    電議
    您是不是在找:
    其它生化試劑

    首頁(yè)| 關(guān)于我們| 聯(lián)系我們| 友情鏈接| 廣告服務(wù)| 會(huì)員服務(wù)| 付款方式| 意見(jiàn)反饋| 法律聲明| 服務(wù)條款